Mặt nạ toàn phần Unix 5000 kèm phin lọc hữu cơ 502 - Sorbent (Nga)

RM676 / Longdar (Đài Loan)
- Chất liệu: cao su
- Bán mặt chụp nhỏ gọn, có kèm theo hai hộp lọc R622
- Hộp lọc hơi độc R622 dùng để lọc hơi hưu cơ, phun sơn, thuốc trừ sâu

- Công dụng: Lọc bụi
- Chất liệu: Sợi không dệt
- Ứng dụng: An toàn thực phẩm, cơ sở hạ tầng nặng, giao thông vận tải, xây dựng, khai thác mỏ,…
- Tiêu chuẩn: Hàn Quốc, EN 143:2000

- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Khả năg :  lọc loại hơi khí độc hữu cơ ( độ sôi >650C ); vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,...) ; SO2 và axit.

- Chất liệu: 3 lớp: Lớp vải lọc bụi, lớp than hoạt tính và lớp vải thấm mồ hôi
- Lớp lọc bằng than hoạt tính ép trong vải không dệt ngăn ngừa được hầu hết sự thâm nhập vào đường hô hấp của các hạt bụi cực nhỏ và các chất thải ô nhiễm khác. Lọc các mùi hôi, hóa chất, mùi xăng xe và khói.
- Đạt tiêu chuẩn TC01:2004

- Sản phẩm gồm: 1 bán mặt nạ Unix 1000 và 2 hộp lọc unix 502
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2,  EN 14387, CE

- Bảo vệ hệ hô hấp khỏi các chất độc hại dạng hơi và khí (bụi, khói, sương mù) có trong không khí

- Nhiệt độ hoạt động: từ -40 đến + 40°C.

3M-3100 + 3M-3301K lọc độc / 3M (Mỹ-VN)
- Sản phẩm bao gồm: mặt nạ 3M 3100, phin lọc 3301K
- Mặt nạ được thiết kế để bảo vệ người sử dụng làm việc trong môi trường độc hại, có tác dụng ngăn bụi dầu, hỗn hợp hơi hữu cơ, vô cơ.
- Dây buộc 4 điểm tiếp xúc đảm bảo độ kín khít khi đeo
- Tiêu chuẩn: EN140:1998

- Chất liệu : Màng Poly công nghệ mới, nhựa và silicon cao cấp
- Mặt nạ toàn phần che nửa đầu dùng kết hợp 2 hộp lọc, giúp bảo vệ hô hấp khỏi các chất độc hại khi làm việc.
- Dùng trong môi trường hóa chất độc hại, chống bụi, tia lửa và hơi hữu cơ, vô cơ. Sử dụng với các loại hộp lọc 6001 ~ 6009. 
- Đạt tiêu chuẩn EN 136:1998 

- Chất liệu: Silicon
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm hai hộp lọc 502

- Lọc các loại hợp chất hơi và khí hơi hữu cơ, khí vô cơ và khí axit ở nhiệt độ cao trên 65 độ C.