- Chất liệu: cao su
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm phin lọc tổng hợp 531
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE
Giá bán: 2,730,000đ
Giá thành viên: 2,520,000đ
Số lượng:
- Chất liệu: Cao su
- Kết hợp với phin lọc để: lọc bụi, lọc khí độc hữu cơ, hơi axit hóa chất......
- Unix 6100 làm việc tốt trong: -40°C - 40 °C và độ ẩm tương đối lên đến 98%.
- Tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003
Nhập thông tin để được tư vấn
Mặt nạ UNIX 6100 có nhiệm vụ cách ly nguồn không khí bị ô nhiễm với cơ quan hô hấp và bảo vệ mắt và mặt người sử dụng. Sản phẩm đáp ứng tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003
UNIX 6100 có khung nhìn là tấm kính lớn, độ bền cao, trong suốt vì vậy hầu như không ảnh hưởng đến vùng nhìn thấy bình thường của mắt ; phần viền quanh phần kính và tiếp giáp phần da mặt bẳng vật liệu silicone đàn hồi mềm mại, bền với nhiệt độ và hóa chất độc; 2 khớp nối phần phía ngoài để gắn hộp lọc ( filter) với 2 van hít vào; phần bán mặt chụp phía trong bao kín mũi mồm có gắn 2 van thở vào và 1 van thở ra.
Mặt nạ có kết cấu tạo cân bằng tốt vì vậy làm giảm sự mệt mỏi cho người dùng dù phải mang trong thời gian dài. Kết cấu mặt chụp ngoài và mặt chụp phía trong tạo độ kín khít gần như tuyệt đối, chỉ cho phép khí thở đi vào cơ thể sau khi đã qua bộ lọc.
Unix 6100 làm việc tốt trong điều kiện môi trường có nhiệt độ từ -40 ° đến 40 ° C và độ ẩm tương đối lên đến 98%..
Để có bộ mặt nạ toàn phần hoàn chỉnh cần sử dụng thêm phin loc (filter) - bán riêng - tùy theo yêu cầu bảo vệ gồm :
- Phin lọc hơi khí độc DOTeco 120 ( bán riêng ) mã hiệu A2 / A1B1E1 / A1B1E1K1 / .... tùy theo yêu cầu bảo vệ .
- Phin lọc bụi DOTeco P3
Cám ơn bạn đã gửi đánh giá cho chúng tôi! Đánh giá của bạn sẻ giúp chúng tôi cải thiện chất lượng dịch vụ hơn nữa.
- Chất liệu: cao su
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm phin lọc tổng hợp 531
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE
Mặt nạ toàn phần Unix 5000 kèm phin lọc tổng hợp 531 - Sorbent (Nga)
Mặt nạ toàn phần MAG-4 Silicone kèm phin lọc tổng hợp 320A2B2E2P3 - Sorbent (Nga)
- Chất liệu: Cao su
- Kết hợp với phin lọc để: lọc bụi, lọc khí độc hữu cơ, hơi axit hóa chất......
- Unix 6100 làm việc tốt trong: -40°C - 40 °C và độ ẩm tương đối lên đến 98%.
- Tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003
Mặt nạ toàn phần Unix 6100 Silicone (Chưa phin) - Sorbent (Nga)
- Chất liệu : Màng Poly công nghệ mới, nhựa và silicon cao cấp
- Mặt nạ toàn phần che nửa đầu dùng kết hợp 2 hộp lọc, giúp bảo vệ hô hấp khỏi các chất độc hại khi làm việc.
- Dùng trong môi trường hóa chất độc hại, chống bụi, tia lửa và hơi hữu cơ, vô cơ. Sử dụng với các loại hộp lọc 6001 ~ 6009.
- Đạt tiêu chuẩn EN 136:1998
Mặt nạ toàn phần 3M-6800 bảo vệ hô hấp toàn diện
Mặt nạ toàn phần MAG + 1 phin lọc tổng hợp 320 A2B2E2 (Sorbent - Nga)
Mặt nạ toàn phần MAG (Không phin lọc) - Sorbent (Nga)
- Chất liệu: cao su
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm theo phin lọc hữu cơ 502
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE
Mặt nạ toàn phần Unix 5000 kèm phin lọc hữu cơ 502 - Sorbent (Nga)
Mặt nạ toàn phần Unix 5000 (Không phin lọc) - Sorbent (Nga)
Mặt nạ toàn phần MAG-4 Silicone (Không phin lọc) - Sorbent (Nga)
- Chất liệu: Silicon
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm hai hộp lọc 502
- Lọc các loại hợp chất hơi và khí hơi hữu cơ, khí vô cơ và khí axit ở nhiệt độ cao trên 65 độ C.
Mặt nạ toàn phần Unix 5100 Silicone kèm 2 phin 502 (Sorbent - Nga)
- Chất liệu: Silicone
- Mặt nạ chụp toàn phần có kèm hai hộp lọc khí độc tổng hợp 531
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE
Mặt nạ toàn phần Unix 5100 Silicone + 2 phin tổng hợp 531 - Sorbent (Nga)
Mặt nạ toàn phần MAG-4 Silicone kèm phin lọc tổng hợp 460K - Sorbent (Nga)
© 2026 Supplyvn
ĐÁNH GIÁ SẢN PHẨM